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微小线宽与厚度复合测量设备

为优化Array/TFT工艺条件如涂布量、曝光量、蚀刻量等，同时测量灰阶图案和关键尺寸

可测量2D与3D

通过实时监控实现工艺稳定化和提高良率

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  • 一次测量即可同时测量CD/厚度/高度
  • 纳米级分辨率,高速测量
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  • Halfton 厚度, Overlay, Hole, PR, ITO, Slit 线宽测量等