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Source 来源
- Point Source : 均匀沉积及易于控制速率的点形蒸发源开发
- Linear Source : 大面积基板均匀沉积及易于控制速率的点形蒸发源开发
- 高分辨率 Micro OLED用 Source : 采用最小化掩膜影像技术适用于Wafer 基板 ，易于高分辨率沉积的特殊蒸发源