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事業内容
Array/TFT工程において、コーティング量・露光量・エッチング量などの工程条件最適化のため、ハーフトーンとCDを同時に測定
2D & 3D 測定可能
リアルタイムモニタリングによる工程安定化および歩留まり向上
High technology
Application