会社情報
事業内容
研究開発
投資情報
JP
KR
EN
CN
会社概要
CEO ご挨拶
認証情報
アクセス
二次電池
半導体/PCB
ディスプレイ
研究開発
次世代プロセス装置開発
先端光学技術の開発
財務情報
広報センター
会社情報
会社概要
CEO ご挨拶
認証情報
アクセス
事業内容
二次電池
半導体/PCB
ディスプレイ
研究開発
研究開発
次世代プロセス装置開発
先端光学技術の開発
投資情報
財務情報
広報センター
研究開発
次世代プロセス装置開発
ホーム
研究開発
次世代プロセス装置開発
研究開発
次世代プロセス装置開発
先端光学技術の開発
次世代プロセス装置開発
研究開発
先端光学技術の開発
次世代プロセス装置開発
二次電池電極プロセス
ディスプレイ成膜プロセス
二次電池電極プロセス
湿式工程
二次電池電極工程装置の Global Trendに合わせた高度化技術開発
Hybrid Drying Coater 開発完了
二次電池電極プロセス
乾式工程
次世代バッテリーである全固体、LFPバッテリー用乾式コーティング装置の開発
二次電池電極プロセス
全固体素材および工程装置
全固体電解質コーティング装置および固体粉末圧着技術の開発
硫化物系固体電解質素材の開発および量産
ディスプレイ成膜プロセス
Source
Point Source : 均一な蒸着およびRate 制御が容易な点状蒸発源の開発
Linear Source : 大面積基板に対する均一な蒸着およびRate제어制御が容易な線状蒸発源の開発
高解像度 Micro OLED用 Source : Wafer 基板に対してシャドウを最小化する技術により高解像度蒸着に適した特殊蒸発源
ディスプレイ成膜プロセス
Aligner
精密なAlignementのための高解像度光学システム
安定した Alignementのための先進技術を組み込んだStage システム
独自のアルゴリズムを適用した最適なAlignement ソフトウェアシステム
ディスプレイ成膜プロセス
QCM(Quartz Crystal Microbalance)
非常に微細な質量変化を精密に測定する技術
蒸発源の安定したRate 制御に必要なQCM センサーシステム
工程シミュレーションを通じた最適なOLED 蒸着システムの構築