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Source
- Point Source : 均一な蒸着およびRate 制御が容易な点状蒸発源の開発
- Linear Source : 大面積基板に対する均一な蒸着およびRate제어制御が容易な線状蒸発源の開発
- 高解像度 Micro OLED用 Source : Wafer 基板に対してシャドウを最小化する技術により高解像度蒸着に適した特殊蒸発源