R&D

차세대 공정장비 개발

HOME

Business

차세대 공정장비 개발
돌아가기

Source

  • Point Source : 균일한 증착 및 Rate 제어가 용이한 점형 증발원 개발
  • Linear Source : 대면적 기판에 대한 균일한 증착 및 Rate제어에 용이한 선형 증발원 개발
  • 고해상도 Micro OLED용 Source : Wafer 기판에 대한 쉐도우를 최소화 하는 기술로 고해상도 증착에 용이한 특수 증발원